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Sistemi di produzione d'acqua ultrapura Genie

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0RG0A04000
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Sistema de purificación de aguas Genie. REPHILE. Modelo: Genie G 5 System con TOC. Flujo Agua EDI Tipo II: 5 L/hr. Ratio dispensación Agua EDI Tipo II: 0-2 L/min. Resistividad Agua EDI Tipo II (a 25ºC): > 5 M?·cm (Típicamente 10-15 M?·cm). TOC Agua EDI TIPO II: < 30 ppb. Ratio dispensación Agua Ultrapura: 0-2 L/min. Resistividad Agua ULTRAPURA (a 25ºC): 18,2 M?·cm. TOC Agua Ultrapura: < 5 ppb
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Sistema de purificación de aguas Genie. REPHILE. Modelo: Genie G 10 System con TOC. Flujo Agua EDI Tipo II: 10 L/hr. Ratio dispensación Agua EDI Tipo II: 0-2 L/min. Resistividad Agua EDI Tipo II (a 25ºC): > 5 M?·cm (Típicamente 10-15 M?·cm). TOC Agua EDI TIPO II: < 30 ppb. Ratio dispensación Agua Ultrapura: 0-2 L/min. Resistividad Agua ULTRAPURA (a 25ºC): 18,2 M?·cm. TOC Agua Ultrapura: < 5 ppb
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Sistema de purificación de aguas Genie. REPHILE. Modelo: Genie G 15 System con TOC. Flujo Agua EDI Tipo II: 15 L/hr. Ratio dispensación Agua EDI Tipo II: 0-2 L/min. Resistividad Agua EDI Tipo II (a 25ºC): > 5 M?·cm (Típicamente 10-15 M?·cm). TOC Agua EDI TIPO II: < 30 ppb. Ratio dispensación Agua Ultrapura: 0-2 L/min. Resistividad Agua ULTRAPURA (a 25ºC): 18,2 M?·cm. TOC Agua Ultrapura: < 5 ppb
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Sistema de purificación de aguas Genie. REPHILE. Modelo: Genie PURIST System. Ratio dispensación Agua Ultrapura: 0-2 L/min. Resistividad Agua ULTRAPURA (a 25ºC): 18,2 M?·cm. TOC Agua Ultrapura: < 5 ppb
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